半导体设备chiller即半导体冷却器，是一种用于半导体制造过程中对设备或工艺进行冷却的装置，其工作原理是利用制冷循环和热交换原理，通过控制循环液的温度、流量和压力，带走半导体工艺设备产生的热量，从而实现精确的温度控制，确保半导体制造过程的稳定性和产品质量。

     半导体设备chiller主要有两种类型，其原理和结构分别如下：

热电制冷式chiller
     • 原理：基于热电效应，当电流通过两种不同半导体材料组成的电偶时，电子从一端移动到另一端，会在一端吸收热量，在另一端放出热量，从而实现制冷。通过改变电流方向，还可切换制冷制热功能.

     • 结构：主要由散热器、p型半导体材料、n型半导体材料、热端冷端电极、直流电源和控制电路等组成。其中，散热器用于散热；p型和n型半导体材料交错排列形成p-n结产生制冷效应；热端冷端电极用于电能输入输出和传导制冷效果；直流电源提供电能；控制电路监测和调节工作状态.

压缩机制冷式chiller
     • 原理：压缩机吸入蒸发器出来的低压工质蒸汽，将其压缩成高温高压气体送入冷凝器，在冷凝器中冷却成高压液体，经节流阀节流成低压液体后送入蒸发器，在蒸发器中吸热蒸发成低压蒸汽，完成制冷循环。通过控制制冷剂的流向和状态变化，实现热量的转移和温度控制.

     • 结构：主要由蒸发器、冷凝器、压缩机和节流阀四大部件构成。蒸发器是输送冷量、吸收被冷却物体热量的设备；压缩机负责吸入、压缩和输送制冷剂蒸汽；冷凝器放出热量，将蒸发器吸收的热量和压缩机功转化的热量传递给冷却介质带走；节流阀对制冷剂节流降压，控制流入蒸发器的制冷剂液体数量，并划分系统的高压侧和低压侧.

     此外，半导体设备chiller还会有循环泵，用于驱动冷却液或制冷剂在系统中循环流动，确保热量能够有效地传递和交换；以及控制系统，根据温度传感器的反馈信号，精确控制制冷系统的运行状态、制冷量输出等，以保持设定的温度稳定.

     中冷低温自主研发的Chiller ZC209是一台对循环液进行温度控制并输出冷热液的装置。具有温度稳定性高、温度范围广、故障自诊断、外部通信等丰富功能。采用先进的制冷及温度控制技术，具有广泛的温度范围:-20℃至+90℃，在半导体制作过程/激光加工机/分析装置/LCD制造装置/金属模具温控等行业用途广泛。

     Chiller ZC209主要应用于半导体、激光、FPD，如:半导体(蚀刻装置、CMP、涂布机·显影机、试验机、清洗机)激光(激光加工机·激光焊接机、激光器、光纤激光器用传送电缆接头、超声波检查装置、二次电池制造工程)可适用于广泛的行业，如制药、化工、新能源、半导体、实验室、高校等多种领域。